光刻胶又称光致抗蚀剂，是由感光树脂、增感剂和溶剂等组成的光敏感混合液体。它在集成电路、太阳能光伏、微机电系统等领域应用广泛。

　　高均匀性的光刻胶薄膜多采用旋转涂胶工艺。利用旋转涂胶工艺所获得的光刻胶薄膜最终厚度是由光刻胶的粘度、表面张力和转盘的旋转角速度等因素决定，绝大多数的光刻胶因旋转涂胶时的离心力被甩离晶圆表面，造成浪费现象，故光刻胶利用率极低。

　　针对光刻胶涂覆工艺(旋转涂胶工艺)的浪费和环境污染问题，驰飞超声波在自行研发的120KHZ的超声波雾化喷涂设备的基础上，对光刻胶喷涂工艺进行改进。

　　超声波雾化喷涂设备电源功耗(10W)低，产生的雾化液滴平均粒径小、均匀性好，液滴直接喷涂在晶圆表面上的光刻胶利用率高，因此它被认为是一种绿色的光刻胶薄膜制备工艺。而普通超声波雾化喷涂设备表面的雾化液滴初始速度小，易于受到周围空气的扰动，不利于获得高质量的光刻胶薄膜，难以实现理想的喷涂效果。为此，驰飞超声波在超声波雾化喷涂设备中加入载气模块增加雾化液滴的动力，控制雾化喷涂方向和范围，实现光刻胶薄膜的定向喷涂于基底的晶圆表面。